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1.磷烷氢气混合气简介:

磷烷是半导体器件制造中的重要 N型掺杂源,同时 磷烷还用于多晶硅化学气相沉淀、外延 Ga P材料、离子注人工艺、MO C V D工艺、磷硅玻璃(PSG)钝化膜制备等工艺中。无色,剧毒,易燃烧气体,带有令人生厌的大蒜味。

2.磷烷氢气混合气常见用途:

在电子气家族中,硅烷、磷烷、硼烷、砷烷应用量较大,是IC制造极为重要的原料。其中的磷烷是半导体器件制造中的重要 N型掺杂源,同时 磷烷还用于多晶硅化学气相沉淀、外延 Ga P材料、离子注人工艺、MO C V D工艺、磷硅玻璃(PSG)钝化膜制备等工艺中。

PH3:易燃、易爆、剧毒;其毒性数为:PEL/TLV 0.3×10, STEL 1×10,LC5020×1O,ZDLH200×10,属剧毒危害品。

 

设备参数

浦江磷烷氢气混合气技术参数表格
 

气体 纯度 杂质含量(ppm) 钢瓶 阀门 备注
1%PH3+H2 1+/-0.03% PH3: 6N H2O≤0.1,CO2≤0.1,N2≤0.1,O2+Ar≤0.2,AsH3≤0.1,,THC≤0.1 48.8L DISS632 100KGf/cm2
H2: O2+Ar≤0.1,N2≤0.1,CO≤0.1,CO2≤0.1,THC≤0.1,H2O≤0.1 440L DISS632

:表中产量其成品的通筛率为99%。各项参数及外形若有变更,依发货时随带的使用维护说明为准。技术参数如有变动,恕不另行通知。

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